Nanoscribe成立于2007年，是一家總部位于德國卡爾斯魯厄的高精度雙光子微納加工系統(tǒng)制造商。公司具有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景，并得到了卡爾蔡司公司的支持。

2023年11月15日，據(jù)資源庫了解，該公司推出了一項(xiàng)創(chuàng)新的3D微加工技術(shù)——雙光子灰度光刻（2GL），其原理是利用激光束和高速振鏡的高頻同步來進(jìn)行單體素調(diào)諧，從而在光學(xué)質(zhì)量方面實(shí)現(xiàn)出色的微納加工特征和結(jié)構(gòu)。

該技術(shù)巧妙地結(jié)合了雙光子聚合（2PP）的高分辨率和獨(dú)特的專利體素調(diào)整工藝，顯著減少了打印層數(shù)，從而使2GL成為基于2PP的3D打印技術(shù)中最快的一種。它為新的應(yīng)用開辟了道路，例如在更短的打印時(shí)間內(nèi)制造質(zhì)量更高、更加精細(xì)的微光學(xué)系統(tǒng)。

目前，Nanoscribe的Quantum X 3D打印機(jī)已經(jīng)集成了擁有該雙光子灰度光刻技術(shù)，可用于光學(xué)級2D和2.5D微納米結(jié)構(gòu)的增材制造。如今，Nanoscribe通過引入2GL，將體素調(diào)整技術(shù)帶入了3D打印，成為Quantum X中對齊雙光子光刻（A2PL）功能的重要補(bǔ)充。

精度更高

打印過程依賴于激光功率的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整，同時(shí)以最高速度進(jìn)行掃描。這會(huì)導(dǎo)致聚合體素的精確尺寸調(diào)整，以“完美”匹配任何3D形狀的輪廓。2GL技術(shù)能夠在打印場邊界動(dòng)態(tài)調(diào)整激光劑量，以補(bǔ)償化學(xué)誘導(dǎo)的光敏聚合物收縮和定位缺陷。

Benchy船的左側(cè)部分是2GL 3D打印的，右側(cè)部分采用傳統(tǒng)的基于2PP的3D打印制成。

Quantum X設(shè)備專為微型光學(xué)元件的打印進(jìn)行了優(yōu)化，具有高精度定位組件和自校準(zhǔn)程序可以實(shí)現(xiàn)拼接相鄰的打印區(qū)域，在制造更大結(jié)構(gòu)的同時(shí)保證出色的打印精度。此外，Quantum X還具有自動(dòng)傾斜補(bǔ)償功能，可以避免在傾斜的襯底上有拼接縫隙或階梯效應(yīng)。

速度更快

2GL 3D打印是市場上最快的基于2PP的微加工技術(shù)之一。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要顯著更少的打印層來實(shí)現(xiàn)光學(xué)級、光滑和納米結(jié)構(gòu)表面的打印結(jié)果。

這意味著目前任何基于2PP的3D打印機(jī)都無法達(dá)到制造速度，在滿足嚴(yán)格的打印質(zhì)量要求的同時(shí)（取決于設(shè)計(jì)，與相同的打印質(zhì)量相比），其吞吐量是替代雙光子光刻系統(tǒng)的10至60倍。

應(yīng)用更廣

2GL的3D打印能夠制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得。憑借全新水平的制造質(zhì)量和速度，2GL 3D打印為推動(dòng)自由空間微光耦合(FSMOC)的工業(yè)化提供了支持，成為光子學(xué)封裝和集成中高度穩(wěn)健且高效的光耦合解決方案。

2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。目前，該技術(shù)已經(jīng)在硅片上3D加工、光纖端面加工和硅光芯片上的3D加工都有所應(yīng)用。

與Nanoscribe的技術(shù)不同，國內(nèi)的摩方精密采用的面投影微立體光刻（PμSL）技術(shù)同樣可以進(jìn)行微納3D打印的制造，可應(yīng)用于精密醫(yī)療器械、電子器件、微流控、微機(jī)械等眾多工業(yè)及科研領(lǐng)域。

Nanoscribe成立于2007年，是一家總部位于德國卡爾斯魯厄的高精度雙光子微納加工系統(tǒng)制造商。公司具有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景，并得到了卡爾蔡司公司的支持。

2023年11月15日，據(jù)資源庫了解，該公司推出了一項(xiàng)創(chuàng)新的3D微加工技術(shù)——雙光子灰度光刻（2GL），其原理是利用激光束和高速振鏡的高頻同步來進(jìn)行單體素調(diào)諧，從而在光學(xué)質(zhì)量方面實(shí)現(xiàn)出色的微納加工特征和結(jié)構(gòu)。

該技術(shù)巧妙地結(jié)合了雙光子聚合（2PP）的高分辨率和獨(dú)特的專利體素調(diào)整工藝，顯著減少了打印層數(shù)，從而使2GL成為基于2PP的3D打印技術(shù)中最快的一種。它為新的應(yīng)用開辟了道路，例如在更短的打印時(shí)間內(nèi)制造質(zhì)量更高、更加精細(xì)的微光學(xué)系統(tǒng)。

目前，Nanoscribe的Quantum X 3D打印機(jī)已經(jīng)集成了擁有該雙光子灰度光刻技術(shù)，可用于光學(xué)級2D和2.5D微納米結(jié)構(gòu)的增材制造。如今，Nanoscribe通過引入2GL，將體素調(diào)整技術(shù)帶入了3D打印，成為Quantum X中對齊雙光子光刻（A2PL）功能的重要補(bǔ)充。

精度更高

打印過程依賴于激光功率的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整，同時(shí)以最高速度進(jìn)行掃描。這會(huì)導(dǎo)致聚合體素的精確尺寸調(diào)整，以“完美”匹配任何3D形狀的輪廓。2GL技術(shù)能夠在打印場邊界動(dòng)態(tài)調(diào)整激光劑量，以補(bǔ)償化學(xué)誘導(dǎo)的光敏聚合物收縮和定位缺陷。

Benchy船的左側(cè)部分是2GL 3D打印的，右側(cè)部分采用傳統(tǒng)的基于2PP的3D打印制成。

Quantum X設(shè)備專為微型光學(xué)元件的打印進(jìn)行了優(yōu)化，具有高精度定位組件和自校準(zhǔn)程序可以實(shí)現(xiàn)拼接相鄰的打印區(qū)域，在制造更大結(jié)構(gòu)的同時(shí)保證出色的打印精度。此外，Quantum X還具有自動(dòng)傾斜補(bǔ)償功能，可以避免在傾斜的襯底上有拼接縫隙或階梯效應(yīng)。

速度更快

2GL 3D打印是市場上最快的基于2PP的微加工技術(shù)之一。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要顯著更少的打印層來實(shí)現(xiàn)光學(xué)級、光滑和納米結(jié)構(gòu)表面的打印結(jié)果。

這意味著目前任何基于2PP的3D打印機(jī)都無法達(dá)到制造速度，在滿足嚴(yán)格的打印質(zhì)量要求的同時(shí)（取決于設(shè)計(jì)，與相同的打印質(zhì)量相比），其吞吐量是替代雙光子光刻系統(tǒng)的10至60倍。

應(yīng)用更廣

2GL的3D打印能夠制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得。憑借全新水平的制造質(zhì)量和速度，2GL 3D打印為推動(dòng)自由空間微光耦合(FSMOC)的工業(yè)化提供了支持，成為光子學(xué)封裝和集成中高度穩(wěn)健且高效的光耦合解決方案。

2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。目前，該技術(shù)已經(jīng)在硅片上3D加工、光纖端面加工和硅光芯片上的3D加工都有所應(yīng)用。

與Nanoscribe的技術(shù)不同，國內(nèi)的摩方精密采用的面投影微立體光刻（PμSL）技術(shù)同樣可以進(jìn)行微納3D打印的制造，可應(yīng)用于精密醫(yī)療器械、電子器件、微流控、微機(jī)械等眾多工業(yè)及科研領(lǐng)域。