資源庫 / 11月14日消息，2024年第62屆中國高等教育博覽會將于11月15日至17日在重慶國際博覽中心舉行，美光速造（展位：N7-L32）將攜140C教育專機閃耀登場。

此次展會，美光速造將展示國內(nèi)首創(chuàng)的LEPT（光跟隨鋪粉技術），能夠精確控制光束與粉末交互，提升層厚控制與打印精度，節(jié)省每層最大15秒，整體加工時間提高50%。此外，美光速造的Fastlayer軟件支持復雜模型的布局管理與切片處理，并配備多核運算芯片，實現(xiàn)模型拓補優(yōu)化。

資源庫 / 11月14日消息，2024年第62屆中國高等教育博覽會將于11月15日至17日在重慶國際博覽中心舉行，美光速造（展位：N7-L32）將攜140C教育專機閃耀登場。

此次展會，美光速造將展示國內(nèi)首創(chuàng)的LEPT（光跟隨鋪粉技術），能夠精確控制光束與粉末交互，提升層厚控制與打印精度，節(jié)省每層最大15秒，整體加工時間提高50%。此外，美光速造的Fastlayer軟件支持復雜模型的布局管理與切片處理，并配備多核運算芯片，實現(xiàn)模型拓補優(yōu)化。